氮化硅陶瓷球的拋光工藝（下）

氮化硅陶瓷球的研磨拋光原因主要是運(yùn)用微小的磨料顆粒產(chǎn)生的動能或化學(xué)作用，在軟質(zhì)拋光工具或化學(xué)液、電/磁場等輔助作用下，從而達(dá)到對陶瓷球坯表面層進(jìn)行拋光，獲得光滑或超光滑的陶瓷球表面。
氮化硅陶瓷球的表面能低，磨料和研磨介質(zhì)在陶瓷球表面的附著性不強(qiáng)，這也是影響碳化硅陶瓷球拋光效率、表面粗糙度和研磨介質(zhì)和磨料附著性差批直徑變動量的原因。由于低密度的原因?qū)е?a href="http://www.ygxxwjj.com">氮化硅陶瓷球在研磨盤溝道中自轉(zhuǎn)性較差，也會影響到陶瓷球的加工精度特別是球形誤差。
前面我們已經(jīng)為大家講了磁流體和化學(xué)機(jī)械兩種用于氮化硅陶瓷球的拋光工藝，今天我們接著來看另外的兩種拋光工藝。他們分別是超聲振動輔助拋光和集群磁流變拋光。
超聲波震動輔助拋光(UVP)
超聲波震動輔助拋光英文名稱為：Ultrasonic Vibration Aided  Polishing。它主要是使拋光工具產(chǎn)生超聲頻率振動，從而達(dá)到拋光的效果。它是一種機(jī)械加工與超聲震動相互作用的加工方法。這種拋光的優(yōu)點(diǎn)主要是其在粗研階段比傳統(tǒng)方式提高了2~3倍的速度。如果我們將前篇文章中提到的磁流變拋光技術(shù)與超聲波拋光技術(shù)相結(jié)合，對氮化硅陶瓷球進(jìn)行拋光，材料去除率高于無超聲振動時(shí)的去除率，加超聲振動拋光陶瓷滾子1h后的表面Ra值可以從0.260 μm降為0.025 μm。

集群磁流變拋光
為了進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)氮化硅陶瓷球的精密拋光加工效率，由廣東工業(yè)大學(xué)閻秋生教授團(tuán)隊(duì)創(chuàng)新研發(fā)的集群磁流變拋光陶瓷球工藝，將多個(gè)小磁性體有規(guī)則地排列在非磁性體材質(zhì)的上下拋光盤的背部。當(dāng)向拋光盤里面注入磁流變拋光液時(shí)，會在磁極上方形成集群磁流變效應(yīng)拋光墊，用上下拋光盤表面所形成的集群磁流變效應(yīng)拋光墊包覆陶瓷球并對其進(jìn)行拋光。

集群磁流變拋光陶瓷球的機(jī)構(gòu)原理圖

在加工時(shí)，因?yàn)榇帕髯儝伖鈮|一直包覆著陶瓷球，將剛性接觸變成柔性接觸，大大減少了研磨沖擊及發(fā)熱產(chǎn)生的次生變形。具有拋光效果好、效率高且不產(chǎn)生亞表面損傷等優(yōu)點(diǎn)，可以在保證表面質(zhì)量和形狀精度的同時(shí)大大提高氮化硅陶瓷球的拋光效率。
本次對氮化硅陶瓷球拋光的有關(guān)工藝就為您先介紹到這里，接下來我們還會介紹一些氮化硅陶瓷異形結(jié)構(gòu)件的加工工藝，我們將不定期的在本網(wǎng)站內(nèi)更新。如果您還有氮化硅陶瓷加工的業(yè)務(wù)，歡迎您撥打我們的洽談熱線：13412856568。