光刻中的晶圓步進機 晶圓步進機是把掩模圖案投射到涂有光刻膠的硅晶圓上的關鍵設備。它決定了圖形能到底有多小、層與層之間能否精確對齊。除了光學與運動控制外，環(huán)境與材料的穩(wěn)定性對最終圖形同樣關鍵   環(huán)境控制：濕度、溫度、氣壓都很重要 濕度：某